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フォトレジストとは

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JSRマイクロ九州株式会社では、現在、JSRのファインケミカル製品である半導体用フォトレジスト、LCD用材料を製造しています。 これらの製品は、いずれもガラスボトル・プラスチックボトル・ケミカルドラム等の容器に充填された液状の化学薬剤です。 半導体用フォトレジストは、クラス100,000のクリーンルーム内で、自動ラインと厳密に規定された作業標準に沿って調製タンクに原料を投入した後に溶解・調製され、クラス10,000のクリーンルームで循環濾過された後、クラス100の充填設備内で容器に充填されます。 容器に使用されるガラスボトルは、ゴミや金属イオンを極限まで取り除いた超純水で洗浄された後に、クリーンベンチに搬入されています。 このように、JSRのファインケミカル製品は、安定した高性能をお客様に保証するために、いずれも極めてクリーンな環境下で、厳密に規定された作業標準に沿って生産されています。 ところで、「フォトレジスト」とは何でしょうか?フォトレジストとはPhoto(光)とResist(耐える)の2単語から成る造語で、光に反応してエッチングに耐える性能を持つ、ポリマー・感光剤・溶剤を主成分とする液状の化学薬剤です。 JSRの半導体用フォトレジストをご使用になるお客様からの、半導体用フォトレジストへの要求特性は以下の通りです。 主としてスピン塗布で成膜する。 膜厚は数百nm~数um。 露光波長の光に感応し、かつ適度な透明性が必要。 現在は主に希アルカリ水溶液が現像液として用いられる。 露光部が溶けるのがポジ型レジスト、未露光部が溶けるのがネガ型レジストという。 酸やアルカリの水溶液を用いたウェットエッチングとガスをプラズマ化し用いるドライエッチングがある。 JSRの半導体用フォトレジストをご使用になるお客様の、フォトレジストを使用する製造工程はリソグラフィープロセスと呼ばれ、基板 Siウェハー に微細パターンを加工するためのプロセスです。

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フォトレジスト

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メルクのフォトレジストは、LEDの基板および発光半導体材料の構造化を可能にする究極の感光性コーティングを提供しています。 基板は、通常は薄いサファイアのウェハーです。 構造は、メルクのフォトレジストに光を照射することによって作成されます。 フォトレジストは光に反応することによって、その一部(露光した部分)は残留し、その他の部分(露光しなかった部分)は現像中に消失します。 この分野におけるメルクの比類なき実績と専門技術により、メルクはLEDの領域においてフォトレジストの世界ナンバーワンサプライヤーとなりました。 しかし、それは、この独創的なフォトコーティング材料がLEDだけに使用されているということではありません。 メルク製品は、フラットパネル生産や半導体でも高い評価を受けているのです。 フォトレジストの発明者および市場リーダーとして、そしてLED業界向けのリソグラフィー製品開発における世界クラスの実績を有するエキスパートとして、メルクは幅広いフォトレジスト製品群を提供しています。 そのメリットが、繰り返しものを言う• 高いスループット• 卓越したエッチング耐性• 優れた密着性• チップ製造における熱安定性の向上• 信頼性の高いグローバルサプライチェーン メルクの製品群には、以下が含まれます:• ポジ型フォトレジスト• ネガ型フォトレジスト• 画像反転モード• G-、h-、および i-ライン、加えてブロードバンドの感度• 標準および厚膜レジスト LED製造工程以外に、メルクのフォトレジストは、以下のような様々な用途にご使用いただけます:• レーザー• センサー• フレキシブルエレクトロニクス•

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対韓輸出管理を緩和 半導体材料「レジスト」―経産省:時事ドットコム

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レジストとは 表面加工を施す際、 サンドブラストなどの 物理的処理や エッチングなどの 化学的処理などを行いますが、この時、同じ表面上でも加工したくない部分をあらかじめ 樹脂などで保護します。 処理する対象の表面の一部を樹脂などで保護することで、表面を削ったり腐食させたいところだけを加工することができるのです。 その「保護膜」や、「保護膜を形成に使用される物質」のことを レジストと言います。 レジスト= 『処理に耐える resist 』という意味です。 主に、電子部品用のプリント基板や、半導体などの通電部分に施すパターン形成で使用されます。 レジストの分類 レジストの分類方法は主に2種類あり、 どうやって保護膜が形成されるかによって分類されるタイプと、 保護膜の使用目的によって分類されるタイプがあります。 それぞれのタイプについて掘り下げていきましょう。 同じフォトレジストでも、 光が当たるとインキが溶けるタイプ(ポジ型)と、 光に当たるとインキが固まるタイプ(ネガ型)があるので、 インキを表面に塗った後、インキのタイプに合わせて作られた「フォトマスク」と呼ばれるフィルムを被せ、光を当てます。 処理面積が広くても対応しやすく、 量産性に優れています。 また、塗り重ねしやすいため、膜の厚さの調整もしやすいのが特徴です。 しかし、 微細すぎるパターン構造には対応できないという欠点もあります。 例えば、プリント基板の銅箔面に作成したい回路パターンを耐酸性のあるレジストインキで印刷、乾燥させ、酸をかければ、銅は酸に弱いのでインキに覆われていない部分だけ銅が溶け、回路パターンの形の所にだけ銅が残ります。 必要な部分の銅を溶かし終えたら、今度は逆に、銅は溶かさず、レジストインキだけを溶かす液を吹き付け除去します。 レジストインキの中でも、最終的にアルカリで落とせるインキと、溶剤で落とせるインキがあります。 例えばユニバーサル基盤のスルーホールの周りの接点を作成する際、あらかじめめっきレジストを塗っておけば、銅めっきを施した時に、めっきレジスト部分には銅が付着しません。 めっき処理後は、エッチングレジストと同様、銅は残してレジストだけを落とす液をかけて除去します。 ソルダー(=はんだ)が余計なところに着かないようにするのが、ソルダーレジストの役目です。 また、プリント基板の表面を覆い、外部から回路パターンを保護する役目や、絶縁膜としての機能もあります。 緑色が一般的ですが、実は青や赤など、それ以外の色も発売されています。 レジストインキの洗浄 レジストインキには、ソルダーレジストのように保護膜や絶縁膜として除去せずに残したままにするタイプのものもありますが、パターン形成後には除去するものが多く、各社より洗浄剤が発売されています。 エッチングに何を使うか、また、レジストインキとして何を使うかによって洗浄剤をうまくコントロールする必要があります。 この記事のカテゴリー• シェアしていただけるとうれしいです.

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